Chemische Oberflächenbehandlung, Ätzen und Reinigen von Silicium und anderen Materialien

Silicium Ätzen: Wir verfügen über voll- und teilautomatisierte Ätzanlagen, in denen Silicium (Silizium) oder andere hartspröde Metalle unterschiedlicher Größe und Morphologie chemisch behandelt werden kann. Die Oberflächenreinigung oder das Lösen von Schichten erfolgt dabei in Batchprozessen oder kontinuierlich arbeitenden Linien.

• Für Photovoltaikanwendungen: Chemische Oberflächenbehandlung und -reinigung von Siliciummaterialen über die gesamte photovoltaische Wertschöpfungskette: vom Grobgut bis zum Silizium-Feinkorn (ab 50 µm)
• Für Photovoltaik- und Halbleiterindustrie: Polierätzen von Impfseelen, Reinigung von Warenträgern, zum Beispiel die Säuberung von Platten, Carriern oder Schiffchen von der CVD-Abscheidung (chemical vapour deposition / Chemische Gasphasenabscheidung) von Siliciumnitrid, selektives Ätzen von Metallen oder metallischen Verunreinigungen usw.
• Rückgewinnung von wertvollen Materialien: Selektives Ätzen von Metallen und Verbindungshalbleitern sowie Rückgewinnung von wertvollen Materialien (Fällung, Elektrolyse etc.)